Masque a trous V2

 

Nous avons vu dans les inconvénients du masque version 1, que la plage de variation de contraste des franges en fonction de la distance, était limitée par la faible amplitude du déplacement relatif des trous (seulement 25mm de variation de course totale, donc un écartement relatif variant de 132 à 164mm. Dans le cas d'une source étendue de 1" d'arc, la variation de contraste relative n'est donc que de 6% (de 64% à 48%) dans le rouge (0,65 microns). (Voir la page sur les inconvénients du Maskatrou).

L'incertitude expérimentale étant très importante, nous avons imaginé un masque permettant une variation d'écartement plus grande, en utilisant un système de déplacement des trous selon une forme en V :

Essayons de faire un peu de géométrie pour comprendre les avantages d'un tel système par rapport à la version 1.

La définition du système repose sur le compromis à faire entre la taille des ouvertures, définissant la plage de variation de distance entre les trous, et le fait de risquer recouvrir le miroir secondaire, ce qui provoquerai une obstruction, et une dégradation notable des franges.

Pour trouver ce compromis, il faut dans un premier temps déterminer l'équation de la droite (AB) représentative du déplacement des trous (voir schéma).

 En notant xmin et xmax les abscisses respectives des points B et A :

et 

De la même manière, ymin et ymax les ordonnées respectives des points B et A :

et  

La droite (AB) est de la forme : avec :

  et car  

Définissons le point M comme le plus proche du support de miroir secondaire : , tel que

La distance OM est : , or donc que l'on insère dans la relation donnant R :

or R est minimum pour soit

 ce qui donne . Soit or nous voulons que

En insérant ces équations (fonction de la variable L) dans un petit fichier Excel, on obtient une valeur de L maximum, et ne recouvrant pas le support de secondaire, dans le cas d'un LX 200 8 inch (S=74mm) : L=39mm, avec une plage de variation de la distance de 110mm (l=7,5mm). Nous avons là le meilleur compromis sur la surface collectrice, et l'écartement maximum admissible.

Conception mécanique du masque :

(En construction)